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シリコン単結晶上のチタン・タングステン薄膜の赤外特性
https://fukuyama-u.repo.nii.ac.jp/records/7786
https://fukuyama-u.repo.nii.ac.jp/records/7786a8246440-443a-493c-bfe6-8e6f4ef23f8c
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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![]() |
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Item type | 紀要論文(ELS) / Departmental Bulletin Paper(1) | |||||
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公開日 | 1990-01-01 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | シリコン単結晶上のチタン・タングステン薄膜の赤外特性 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | Infrared Characteristics for Titanium Tungsten Films on Silicon Substrate | |||||
言語 | en | |||||
言語 | ||||||
言語 | jpn | |||||
キーワード | ||||||
主題Scheme | Other | |||||
主題 | 赤外 | |||||
キーワード | ||||||
主題Scheme | Other | |||||
主題 | 光学薄膜 | |||||
キーワード | ||||||
主題Scheme | Other | |||||
主題 | 屈折率 | |||||
キーワード | ||||||
主題Scheme | Other | |||||
主題 | チタン・タングステン膜 | |||||
資源タイプ | ||||||
資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||
ページ属性 | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | P(論文) | |||||
著者名(日) |
植松, 滋幸
× 植松, 滋幸 |
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著者名よみ | ||||||
識別子Scheme | WEKO | |||||
識別子 | 41970 | |||||
姓名 | ウエマツ, シゲユキ | |||||
著者名(英) | ||||||
識別子Scheme | WEKO | |||||
識別子 | 41971 | |||||
姓名 | UEMATSU, Shigeyuki | |||||
言語 | en | |||||
著者所属(日) | ||||||
値 | 福山大学工学部電子電気工学科 | |||||
抄録(英) | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | Fron the measurements of infrared transmittance and reflectance for titanium tungsten films on silicon substrate, index of refraction, infrared absorption coefficient and electrical conductivity were decided. The changes of refractive index is not strong on the thickness of titanium tugsten films at 3 μm of wavelength, but at 6μm the remarkable changes is obserbed. The difference is explained by more tight corelation between the incident photons and electrons in the film. Electrical conductivities were decreased at thinner film. The reason of the thickness dependence is that conduction electrons were scattered by both sides. Much more change at longer wavelength supports above the hypothesis. | |||||
雑誌書誌ID | ||||||
収録物識別子タイプ | NCID | |||||
収録物識別子 | AN00217655 | |||||
書誌情報 |
福山大学工学部紀要 巻 12, p. 1-7, 発行日 1990 |