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  1. 学内発行誌
  2. 工学部
  3. 工学部紀要
  4. 12

シリコン単結晶上のチタン・タングステン薄膜の赤外特性

https://fukuyama-u.repo.nii.ac.jp/records/7763
https://fukuyama-u.repo.nii.ac.jp/records/7763
df8d9a76-37c4-4bdf-992f-40e1b0f7d38c
名前 / ファイル ライセンス アクション
KJ00005781142.pdf KJ00005781142.pdf (469.1 kB)
Item type 紀要論文(ELS) / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 1990-01-01
タイトル
タイトル シリコン単結晶上のチタン・タングステン薄膜の赤外特性
タイトル
タイトル Infrared Characteristics for Titanium Tungsten Films on Silicon Substrate
言語 en
言語
言語 jpn
キーワード
主題Scheme Other
主題 赤外
キーワード
主題Scheme Other
主題 光学薄膜
キーワード
主題Scheme Other
主題 屈折率
キーワード
主題Scheme Other
主題 チタン・タングステン膜
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
ページ属性
内容記述タイプ Other
内容記述 P(論文)
著者名(日) 植松, 滋幸

× 植松, 滋幸

WEKO 41888

植松, 滋幸

Search repository
著者名よみ
識別子Scheme WEKO
識別子 41889
姓名 ウエマツ, シゲユキ
著者名(英)
識別子Scheme WEKO
識別子 41890
姓名 UEMATSU, Shigeyuki
言語 en
著者所属(日)
値 福山大学工学部電子電気工学科
抄録(英)
内容記述タイプ Other
内容記述 Fron the measurements of infrared transmittance and reflectance for titanium tungsten films on silicon substrate, index of refraction, infrared absorption coefficient and electrical conductivity were decided. The changes of refractive index is not strong on the thickness of titanium tugsten films at 3 μm of wavelength, but at 6μm the remarkable changes is obserbed. The difference is explained by more tight corelation between the incident photons and electrons in the film. Electrical conductivities were decreased at thinner film. The reason of the thickness dependence is that conduction electrons were scattered by both sides. Much more change at longer wavelength supports above the hypothesis.
雑誌書誌ID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AN00217655
書誌情報 福山大学工学部紀要

巻 12, p. 1-7, 発行日 1990
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Ver.1 2023-06-19 10:36:53.044916
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